201906-26

DUV/EUV(表面改質、親水化)

DUV Lamp是254nm和185nm波長的紫外線，EUV LAMP是172nm波長的紫外線，主要應用於乾洗淨製程上，去除被照射物表面之有機物質...

201906-26

化學藥液濃度計

HORIBA的化學藥液濃度計可即時監測不同藥液的濃度，如SC-1、SC-2、SPM、HF等。 此款濃度計可應用於半導體中的清洗或蝕刻製程...

201906-26

氣體質量流量控制器(MFC)

HORIBA-STEC提供多種不同類型的氣體質量流量控制器以滿足客户不同的需求。所有產品都擁有高精度、快速響應的特性...

201906-26

精密塗佈系統 (PCS)

分别控制粒子直徑和粒子飛行速度以達到最適當的塗膜技術、利用低壓可以實現更均匀的微粒化的技術，通過與連續穩定供應材料的技術相結合...

201906-26

超高壓微噴射清洗系統 HPMJ

所謂超高壓微噴射清洗系統，是指將清洗液用泵浦加壓、輸送，利用從微型噴射式噴嘴中噴出的微小液滴化的清洗液，對準物件高速噴射的物理清洗系統...